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【普樂(lè)斯】蘇州小型真空等離子清洗機(jī) PM/R-24LN

品牌：普樂(lè)斯

名稱：蘇州小型真空等離子清洗機(jī)

型號(hào)：PM/R-24LN

功率：整機(jī)峰值功率2.5KW

用途：用于不同材料的表面處理、適合于各類材料，適用于實(shí)驗(yàn)室、研究所等場(chǎng)合

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產(chǎn)品特點(diǎn)

1、觸摸屏操作界面
2、數(shù)字及圖標(biāo)多重工藝參數(shù)實(shí)時(shí)顯示
3、三色燈異常報(bào)警功能
4、自動(dòng)/手動(dòng)操作模式切換
5、可存儲(chǔ)多套工藝配方
6、遠(yuǎn)程操控，數(shù)據(jù)導(dǎo)出（可選）
7、模塊多樣化選擇，多層托架可選，處理量大

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產(chǎn)品參數(shù)

型號(hào)		PM-24LN	PR-24LN
控制系統(tǒng)	控制方式	全自動(dòng)控制（自動(dòng)/手動(dòng)切換）
		PLC（標(biāo)配）/PC（可選）
	操作系統(tǒng)	Windows 10
	觸摸屏	7寸
整機(jī)規(guī)格	尺寸	W600×D850×H1500mm
腔體	尺寸	W260×D350×H260mm
	材質(zhì)	鋁合金（標(biāo)配）/不銹鋼（可選）
電極	尺寸	W251×D267mm
	層數(shù)	1-5層，可選
托架	材質(zhì)	鋁合金（標(biāo)配）/不銹鋼（可選）
	層數(shù)	1層
真空計(jì)	皮拉尼式真空計(jì)	1個(gè)
流量計(jì)	MFC質(zhì)量流量控制器	2個(gè)；Ar、N₂、O₂（可選）
真空泵	機(jī)械油式旋片泵	1套
發(fā)生器	中頻/射頻	40KHz，0~1000W	13.56MHz，0~500W
額定功率	整機(jī)峰值功率	2.5KW
機(jī)臺(tái)供電	單相三線式	AC-220V
選購(gòu)品	干式泵、氣浴電極（打孔）、托架、接枝氣化儀、防腐密封、腔體加熱、加熱盤、溫度傳感器、H₂安全閥、慢速泄氣閥、慢速抽氣閥、鋼瓶減壓閥、水冷電極、冰水機(jī)、模溫機(jī)、非標(biāo)法蘭、陶瓷緊固件

注：以上參數(shù)僅供參考，本公司可能對(duì)相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)進(jìn)行調(diào)整，如有變動(dòng)，恕不再另行通知。若有不明處，歡迎來(lái)電詢問(wèn)。

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工作原理

在真空狀態(tài)下，壓力越來(lái)越小，分子間間距越來(lái)越大，分子間力越來(lái)越小，利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體，然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。如圖所示：
真空等離子工作原理

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應(yīng)用領(lǐng)域

1. 晶圓

去除光刻膠：傳統(tǒng)的濕化學(xué)方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應(yīng)不能精準(zhǔn)控制，清洗不徹底，容易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。而作為干式方法的晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備表面處理可控性強(qiáng)，一致性好，不僅可以徹底去除光刻膠和其他有機(jī)物，而且還可以活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤(rùn)性。

2. 引線框架

銅引線框架：處于對(duì)性能和成本的考慮，微電子封裝領(lǐng)域目前主要采用導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、加工性能良好的銅合金材料作為引線框架。銅的氧化物與其它一些有機(jī)污染物會(huì)造成密封模塑與銅引線框架的分層，造成封裝后密封性能變差與慢性滲氣現(xiàn)象，同時(shí)也會(huì)影響芯片的粘接和引線鍵合質(zhì)量，經(jīng)過(guò)晶圓級(jí)封裝等離子清洗設(shè)備表面處理銅引線框架，可去除有機(jī)物和氧化層，同時(shí)活化和粗化表面，確保打線和封裝的可靠性。

3. 引線鍵合

引線鍵合：引線鍵合的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠性有決定性影響，鍵合區(qū)必須無(wú)污染物并具有良好的鍵合特性。污染物的存在，如氧化物、有機(jī)污染物等都會(huì)嚴(yán)重削弱引線鍵合的拉力值。等離子清洗設(shè)備表面處理能有效去除鍵合區(qū)的表面污染物并使其粗糙度增加，能明顯提高引線的鍵合拉力，極大的提高封裝器件的可靠性。