真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性和腔體容積和進(jìn)氣方式有何關(guān)系？
文章導(dǎo)讀：隨著產(chǎn)品的科技化、精細(xì)化工藝要求的發(fā)展，某些產(chǎn)品在進(jìn)行等離子處理中，對真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性提出了更高的要求，其實(shí)影響真空等離子處理設(shè)備的因素眾多，如腔體大小、進(jìn)氣方式、電極結(jié)構(gòu)、電源頻率、氣體流量、功率大小等，任一因素的變化都會對等離子處理的均勻性產(chǎn)生較大的影響，今天普樂斯先向大家介紹一下腔體大小和進(jìn)氣方式對等離子處理均勻性的影響的相關(guān)內(nèi)容。
隨著產(chǎn)品的科技化、精細(xì)化工藝要求的發(fā)展，某些產(chǎn)品在進(jìn)行等離子處理中，對真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性提出了更高的要求，其實(shí)影響真空等離子處理設(shè)備的因素眾多，如腔體大小、進(jìn)氣方式、電極結(jié)構(gòu)、電源頻率、氣體流量、功率大小等，任一因素的變化都會對等離子處理的均勻性產(chǎn)生較大的影響，今天普樂斯先向大家介紹一下腔體大小和進(jìn)氣方式對等離子處理均勻性的影響的相關(guān)內(nèi)容。
一、真空等離子處理系統(tǒng)的腔體容積越大，處理的均勻性越難掌握
真空等離子處理系統(tǒng)的真空腔體容積越大，越難掌握其均勻性，相應(yīng)的，在對電源的選擇上要格外慎重。當(dāng)對產(chǎn)品的均勻性要求較高，且腔體容積要求較大時(shí)，我們通常要根據(jù)所處理的產(chǎn)品規(guī)格、要求、產(chǎn)量、容積等多方面因素，進(jìn)行產(chǎn)品定制。定制型真空等離子清洗機(jī)也需要以事實(shí)作為依據(jù)，腔體越大所需的RF電源功率就越大，因此如等離子發(fā)生器只選用13.56MHz的RF電源時(shí)，為保證均勻性，腔體容積通常會控制在600L以內(nèi)。
如果需使用3000W及以上功率，普樂斯會建議搭配美國AE、MKS或其他進(jìn)口的RF電源，雖然在成本費(fèi)用上會相對較高，設(shè)備運(yùn)行時(shí)更加穩(wěn)定可靠且均勻性有保障。如果處理的產(chǎn)品對均勻性要求很高，建議使用40KHz的中頻電源或?qū)⒄婵涨惑w控制在100L以內(nèi)。
二、前進(jìn)后排的進(jìn)出氣方式對改善均勻性有幫助
普樂斯經(jīng)多次對真空等離子處理系統(tǒng)的研究發(fā)現(xiàn)，使用前進(jìn)氣后排氣的方法，對處理的均勻性相對較好。我們在腔體內(nèi)的進(jìn)氣管的選擇上基本采用鋁管，將鋁管彎折并焊接成類似方形結(jié)構(gòu)，與此同時(shí)在在鋁管上開孔，開孔位置以兩層電極板中間位置為佳，這樣可保證腔體內(nèi)每層處理空間都有獨(dú)立的進(jìn)氣口。如下圖所示：
此外，在針對一些腔體容積較大的設(shè)備時(shí)，其進(jìn)氣結(jié)構(gòu)需要進(jìn)行一些改動(dòng)和調(diào)整，當(dāng)然這些改動(dòng)和調(diào)整需要根據(jù)腔體的具體大小和結(jié)構(gòu)來決定，以下所示的是其中一種結(jié)構(gòu)：
以上關(guān)于真空等離子處理系統(tǒng)的均勻性和腔體容積和進(jìn)氣方式之間關(guān)聯(lián)性的相關(guān)內(nèi)容。普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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