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3nm工藝節(jié)點上,廠商對此近期有何動作?普樂斯等離子清洗機觀察

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2020-04-03 10:01【
文章導讀:在關于3nm工藝節(jié)點上的競爭中,各晶圓代工廠在保證良率的前提下,搶先進入量產階段一定程度上會帶來更大的競爭優(yōu)勢。因此,很多代工廠也在3nm工藝上進行了大量的投資。那么近期各廠商有哪些動作呢?普樂斯等離子清洗機觀察。
普樂斯等離子清洗機觀察,三星曾在去年宣布,將在未來10年內在包括代工服務在內的其邏輯芯片業(yè)務上投資上千億美元,以期望能夠超越臺積電,成為全球第1大芯片代工廠。而EUV是三星試圖超越臺積電的一大殺手锏,在7nm工藝上就已經率先得到使用了。按其計劃,到今年底V1生產線投資金額將達到60億美元。為了支持三星達成2030年南韓成為全球晶圓代工第1、IC設計市占率10%目標。
通過大量資金的投入,三星也率先公布了其在3nm上的進展。2019年三星宣布將在3nm節(jié)點放棄FinFET晶體管,轉向GAA環(huán)繞柵極晶體管工藝。據了解,采用GAA技術的3nm工藝可將核心面積減少45%,功耗下降50%,性能提高35%。據韓媒報道,三星電子已經成功開發(fā)了業(yè)界第1個3nm制程,預計將于2022年開啟大規(guī)模量產。
 
與三星相比,臺積電在3nm方面的消息比較少。另外英特爾在3nm上的消息則幾乎沒有。在投資方面,據有關報道稱,臺積電3nm工藝總投資500億美元,其中,建廠方面就將投資至少200億美元。在生產計劃方面,據外媒報道稱,受新冠肺炎疫情的影響,臺積電3nm試產線安裝被迫延后,原定6月裝機的安排將延遲到10月。在技術方面,臺積電相關3nm的消息還不十分明確。臺積電3nm更詳細的消息或將在其技術論壇上公布,但據近期的報道顯示,臺積電原定于相4月29日的技術論壇將推遲到8月24日舉行。以此來看,在今年晚些時間我們才能真切看到臺積電在3nm技術上的進展。

本文來源:半導體行業(yè)觀察  作者:蔣思瑩
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